失之千里差之毫厘，突破光刻机技术有多难？

今年，中国人民最受"中国核心"问题的影响，因为美国对华为的不友好新闻占据了头条，所以也让很多人关注芯片问题，就像大家都在担心芯片问题一样，中国的芯片行业终于传来了好消息！

中国国内光刻机迎来了新的突破

正因为华为的消息，每个人都知道中国在芯片上的缺点，但你不知道的是，如果你想真正突破对芯片的封锁，最重要的是光刻技术，而高端光刻机被称为世界上最先进的仪器之一。

目前，荷兰领先的光刻技术公司是ASML，甚至可以说ASML垄断了这一技术。不久前，荷兰的ASML总裁说，中国永远不会制造出最高端的光刻机！

光刻机是芯片制造中不可缺少的核心设备，但目前我国在光刻机技术上依赖国外进口，因此，中国要想在芯片技术上取得突破，首先必须突破光刻技术。

突破光刻机有多难？

在中国北斗定位导航系统第三芯片成功突破22 nm限制后，上海微电子技术在中国也被曝光。中国突破了22 nm规格光刻机。这一消息鼓舞了整个高科技界！

说到这一点，了解更多技术的朋友可能会说，有什么值得庆祝的呢？荷兰ASML公司的光刻机技术是5nm，而我国22 nm与世界前5nm之间仍有很大差距。

事实上，光刻技术很难突破，否则就不会被称为"现代光学产业的花"。在22 nm之前，我国的光刻机技术仍停留在90 nm，不要低估这22 nm的突破。目前，许多国家还没有征服50 nm的关键，现在中国的成就相当于实现了绝大多数国家尚未实现的目标。

中国核心"将推进

为了突破中国在半导体芯片领域的封锁，今年上半年，国家在半导体芯片领域投入了600亿美元，国家也十分重视"中国核心"。

事实上，每一项科技研究都不可能一蹴而就，虽然中国起步较晚，但在美国的沉重压力下，中国也取得了阶段性的胜利，虽然距离世界顶级光刻机还有一段距离，但我国也在积极缩小这一差距，我相信我们的"中国核心"已经越来越接近我们了！